دانلود مقاله ترجمه شده با عنوان بررسی تاثیر طرح چیدمان محلی BTI شامل تاثیر بهبودی بر روی سلول های استاندارد مختلف در فین فت 10 نانومتر،
جزئیات بیشتر این محصول:
عنوان انگلیسی مقاله:
Study of Impact of BTI’s Local Layout Effect Including Recovery Effect on Various Standard-Cells in 10nm FinFET
عنوان فارسی مقاله:
بررسی تاثیر طرح چیدمان محلی BTI شامل تاثیر بهبودی بر روی سلول های استاندارد مختلف در فین فت 10 نانومتر
فرمت فایل ترجمه شده: pdf
تعداد صفحات فایل ترجمه شده: 12
تعداد صفحات فایل ترجمه شده: 12
تعداد صفحات فایل اصلی: 4 – هر صفحه دو ستون با فونت ریز
توضیحات:
این
مقاله یکی از موضوعات جدید و بروز در زمینه فین فت 10 نانومتر می باشد و مناسب
همه دوره ها: کارشناسی، ارشد و دکتری برق می باشد. ترجمه به صورت کاملاً
روان بوده و اصلاً ترجمه ماشینی در آن استفاده نشده است.
مقاله یکی از موضوعات جدید و بروز در زمینه فین فت 10 نانومتر می باشد و مناسب
همه دوره ها: کارشناسی، ارشد و دکتری برق می باشد. ترجمه به صورت کاملاً
روان بوده و اصلاً ترجمه ماشینی در آن استفاده نشده است.
تمامی
شکل ها و جداول به صورت مرتب و طبق ترتیب مقاله اصلی بوده و می تواند
موضوع مقالات دروس مختلف دانشگاهی باشد. این مقاله از سایت معروف و شناخته
شده IEEE می باشد که معمولاً تمامی اساتید با این سایت آشنا هستند.
